光学薄膜の基本膜構成は下記のようになり、通常は薄膜材料2~3種類を交互に重ね合わせる事で所望の分光特性が得られます。ここでは、基本的な膜設計例を示します。
実際の設計はコンピューターを用い、各層の膜厚を希望の特性に合致するように最適化します。
また、基板や膜の吸収を考慮する必要もあります。
下記で使用した表記は、高屈折材料をH、低屈折材料をLで表し、一般的な表記に従い、光学膜厚の1/4λの4は省略して表記しています。
【例】 1H → 高屈折材料(例えばTiO2 n=2.4) 膜厚 1.0/4λ を示します。
1L → 低屈折材料(例えばSiO2 n=1.46) 膜厚 1.0/4λ を示します。
基板/0.5L 1H 0.5L/空気 が示す構成は
空気
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3層目 低屈折材料 0.5λ/4
2層目 高屈折材料 1.0λ/4
1層目 低屈折材料 0.5λ/4
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基板
を意味します。
■単層反射防止膜
基本膜構成例
分光特性図(片面)
■2層反射防止膜
基本膜構成例
分光特性図(片面)
■3層反射防止膜
基本膜構成例
分光特性図(片面)
■UVカット
基本膜構成例
基本構成は 0.5L(1H 1L)n です。
グラフ上のリップルを取るには、膜厚をコンピューターにより最適化する必要があります。
分光特性図(片面)
17層膜
■IRカット
基本膜構成例
基本構成は 0.5H(1H 1L)n です。
グラフ上のリップルを取るには、膜厚をコンピューターにより最適化する必要があります。
分光特性図(片面)
17層膜